SMIC podrobne popisuje technol├│giu spracovania N + 1: Performance 7 Nm v ─î├şne

SMIC za─Źal vyr├íba┼ą ve─żkos┼ą ─Źipov pomocou 14nm v├Żrobn├ęho procesu FinFET v ┼ítvrtom ┼ítvr┼ąroku 2019. Odvtedy spolo─Źnos┼ą tvrdo pracovala na v├Żvoji k─ż├║─Źov├ęho uzla novej gener├ície, ktor├Ż naz├Żva N + 1, T├íto technol├│gia m├í ur─Źit├ę vlastnosti porovnate─żn├ę s technol├│giami spracovania 7 Konkuren─Źn├ę nanometre, ale SMIC chce uk├íza┼ą, ┼że N + 1 Nie je to technick├ę 7 Nm.

V porovnan├ş s 14nm technol├│giou SMIC, N + 1 Zni┼żuje spotrebu energie o 57%, zvy┼íuje v├Żkon o 20% a zni┼żuje logick├Ż priestor a┼ż o 63%. Aj ke─Ć tento proces umo┼ż┼łuje n├ívrh├írom ─Źipov, aby svoje SoC zmen┼íili a energeticky ├║─Źinnej┼íie, skromn├ę ÔÇőÔÇőzv├Ż┼íenie v├Żkonu neumo┼ż┼łuje N + 1 Konkurovan├şm proti technol├│gii 7 nm a jeho deriv├íty. Za t├Żmto ├║─Źelom sa vyv├şja SMIC N + 1 Ako technol├│gia pre lacn├ę ─Źipy.

Hovorca SMIC uviedol:

ÔÇ×Na┼í├şm cie─żom je spolo─Źnos┼ą N + 1 Je to n├şzkon├íkladov├í aplik├ícia, ktor├í v porovnan├ş s ┼łou m├┤┼że zn├ş┼żi┼ą n├íklady asi o 10 percent 7 Nm. Toto je ve─żmi ┼ípeci├ílna aplik├ícia. "

Predov┼íetk├Żm N + 1 SMIC nepou┼ż├şva ultrafialov├║ litografiu (EUVL), tak┼że fab nemus├ş kupova┼ą drah├ę zariadenie ASML. To neznamen├í, ┼że spolo─Źnos┼ą neuva┼żovala o pou┼żit├ş EUV – spolo─Źnos┼ą mala postupn├Ż syst├ęm a prieskum z EUV – ale nebola nain┼ítalovan├í pod─ża obmedzen├ş ulo┼żen├Żch Spojen├Żmi ┼ít├ítmi. V├Żsledkom bude N + 2 SMIC bude pou┼ż├şva┼ą EUV.

Zliev├íre┼ł z ─î├şny pl├ínuje za─Źa┼ą vyr├íba┼ą rizik├í pomocou technol├│gie N + 1 Vo ┼ítvrtom ┼ítvr┼ąroku 2020 tak o─Źak├íval, ┼że tento proces vst├║pi do v├Żroby ve─żk├Żch objemov (HVM) niekedy v roku 2021 alebo 2022.

S├║visiace ─Ź├ştanie:

Zdroje: SMIC a EE Times China